第1364章 膜厚控制
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  八月三號，鹏城，实验楼三层。
  钱院士带了十二个人，关在机房里，三天没出来。
  手册拆开之后，问题比想像的多。蔡司的镀膜工艺用的是磁控溅射加离子束辅助沉积，两套系统配合，精度要求到了亚纳米级別。
  钱院士的助手小周拿著列印出来的参数表，站在设备前，对了半天。
  “钱老，咱们这台溅射设备，靶材转速最高到三千转，手册上要求四千五。”
  钱院士走过来，看了一眼参数。
  “膜厚控制呢？”
  小周翻到第三页：“手册要求单层膜厚度误差不超过零点零二纳米。咱们这台设备最好做到零点零八，差四倍。”
  钱院士把参数表放下，摘了老花镜。
  设备不够——这是硬伤。
  他打给张红旗。
  “红旗，设备精度不够。手册里的工艺，咱们现有的机器跑不了。”
  张红旗在煤市街：“差多少？”
  “核心指標差三到四倍。要么换设备，要么改设备。换设备国內买不到，国外买走审批，最快半年。”
  张红旗说：“改。”