第91章 晶片设计软体，琐事

  徐卫国笑著点头道：“这个问题我也知道，不过你不用担心，以后肯定要使用计算机辅助设计的。到时候用专业的设计软体，很多步骤都可以自动完成，几百上千人一块设计，那时设计能力的进步肯定比你们製造能力的进步速度快。”

  他指的，当然就是eda软体了，其翻译过来就是电子设计自动化。

  原歷史上，人类最早在1978年开始使用计算机进行晶片设计，八十年代eda软体开始普及。

  “计算机辅助设计？这个项目进度怎么样了？”

  徐卫国：“这个我倒没有了解太多，好像是七月份时立项的。我觉得硬体应该不是问题，计算所之前推出的那款计算机就够用，软体则复杂些。你要是想知道，就打电话问问吧！”

  “我有空就问。”

  徐卫国又问道：“光刻机的改进工作推进的怎么样了？”

  章立军道：“还算顺利，一年之內，我们有信心把特徵尺寸推进到600纳米。”

  他们现在在做的，只是在之前的步进式（投影）光刻机基础上进一步改进，毕竟这种光刻机还远没有达到加工极限。要知道，它用的可是超前的准分子雷射光源，理论上加工能力是能推进到一百多纳米水平的。

  之所以现在达不到，纯粹是其他分系统的技术水平不够，拖累了整体进展。

  又聊了一会儿，徐卫国站起身来，道：“你忙吧，我去別处转转。”

  “您慢走！”

  徐卫国走出实验室，发现外面不知什么时候飘起了雪花，地上盖了薄薄的一层。

  他快步走进雪幕，往下一站赶去。

  不知不觉中，这一年又要结尾了，徐卫国也迎来了自己的二十五岁。